■ 英語タイトル：Epitaxial Wafer Market Forecasts to 2030 – Global Analysis By Deposition Type (Heteroepitaxy and Homeoepitaxy), Material Type, Size, Application, End User and By Geography
	■ 発行会社/調査会社：Stratistics MRC ■ 商品コード：SMRC24NOV295 ■ 発行日：2024年10月 ■ 調査対象地域：グローバル ■ 産業分野：半導体 ■ ページ数：200 Pages ■ レポート言語：英語 ■ レポート形式：PDF ■ 納品方式：Eメール

Stratistics MRCによると、エピタキシャルウエハーの世界市場は2024年に35億ドルを占め、予測期間中の年平均成長率は14.9%で、2030年には82億ドルに達する見込みです。エピタキシャルウエハーは、エピタキシー法（原子の層を制御しながら堆積させるプロセス）を用いて基板上に成長させた半導体材料（通常はシリコン）の薄片です。この技術により、新しい層は下地基板の結晶構造と配向を維持し、高品質で欠陥のない材料が得られます。エピタキシャルウエハーは、性能を向上させ、複雑な構造の製造を可能にするため、高度な電子機器や集積回路の製造に不可欠です。
市場ダイナミクス

推進要因

ドライバー：再生可能エネルギーの拡大

再生可能エネルギーの拡大は、効率的な太陽電池と高度なエネルギー貯蔵システムの需要によって、エピタキシャルウエハー市場に大きな影響を与えています。太陽電池や風力発電技術の進化に伴い、太陽電池やパワーエレクトロニクスの性能を高めるには、高品質のエピタキシャルウエハーが不可欠です。このような持続可能性へのシフトは、半導体製造における技術革新を促進し、その結果、より高い効率と低い製造コストを支える改良材料が生み出されます。

抑制要因

代替技術との競争

特に有機太陽電池やペロブスカイト太陽電池のような材料の技術革新が進むにつれて、代替技術との競争が市場に大きな課題を突きつけています。これらの代替技術は、より低コストでシンプルな製造プロセスを約束することが多く、従来のエピタキシャルウエハーの需要を減少させる可能性があります。企業がこうした破壊的技術に重点を移すにつれ、エピタキシャルウエハー・セクターは市場シェアの低下と急速な技術革新への圧力に直面する可能性があります。

機会：

化合物半導体デバイスの開発

化合物半導体デバイスの開発は、これらの材料が高周波およびハイパワーアプリケーションで優れた性能を発揮することから、市場を大きく前進させる原動力となっています。効率的な光電子デバイスの需要は、化合物半導体用に調整された高品質のエピタキシャルウエハーの必要性を高めています。この傾向は、成長技術と材料工学の革新を促進し、デバイスの能力を高め、電気通信、航空宇宙、エネルギー分野での用途を拡大しています。

脅威

高い製造コスト

製造コストの高騰は、アクセシビリティと競争力を制限することにより、市場に大きな影響を与えます。精密な成長技術や厳格な品質管理など、高品質のウエハーを製造するために必要な複雑な工程は、コストの上昇につながります。さらに、価格の上昇は、顧客をより安価な代替品や競合技術に向かわせる可能性があり、その結果、市場シェアが低下し、収益性の維持に努める既存のエピタキシャルウエハー・メーカーの成長が停滞する可能性があります。

COVID-19の影響：

COVID-19の流行はエピタキシャルウエハー市場に大きな影響を与え、サプライチェーンと製造プロセスに混乱をもたらしました。操業停止や労働力不足により生産が滞り、ウェハーの供給が遅れました。さらに、エレクトロニクスや自動車などの産業からの需要が変動し、市場ダイナミクスがさらに複雑になりました。しかし、パンデミックの間、リモートワークやデジタルインフラへの注目が高まったことで、最終的には先端半導体技術への需要が加速し、マイナスの影響を部分的に相殺しました。

予測期間中、パワーデバイス分野が最大と予測

予測期間中、最大の市場シェアを占めると予測されるのはパワーデバイス分野。エピタキシャルウエハー、特に炭化ケイ素（SiC）と窒化ガリウム（GaN）製のウエハーは、高電圧、高温、高周波のパワーデバイスの製造を可能にします。これらの材料は、より小型、軽量、高効率のソリューションを可能にし、パワーエレクトロニクスの進歩を促進します。エネルギー効率の高い技術に対する世界的な需要が高まるにつれ、パワーデバイス用エピタキシャルウエハー市場は拡大を続けています。

予測期間中のCAGRは通信分野が最も高い見込み

通信分野は、高速データ伝送の需要増加により、予測期間中のCAGRが最も高くなると予想されます。エピタキシャルウエハー、特にガリウムヒ素（GaAs）などの材料で作られたウエハーは、アンプやトランシーバーなどの高性能コンポーネントの製造に不可欠です。ネットワークがより広い帯域幅と接続性をサポートするように進化するにつれ、通信アプリケーションにおける高度なエピタキシャルウエハーのニーズは高まり続け、技術革新と市場拡大を促進しています。

最大シェアの地域：

予測期間中、半導体の進歩により、北米地域が最大の市場シェアを占めると予測されています。電気通信、自動車、再生可能エネルギーなどの主要産業は、その効率性と信頼性からエピタキシャルウエハーを活用しています。この地域は研究開発に力を入れており、大手半導体メーカーの存在も相まって、市場の技術革新と生産の重要な拠点となっています。

CAGRが最も高い地域：

予測期間中に最も高い成長率を記録するのはアジア太平洋地域です。スマートフォン、IoT機器、その他の家電製品の普及が進んでいるため、エピタキシャルウエハーの需要が大きく伸びています。半導体製造技術の革新は、エピタキシャルウエハーの効率と性能を向上させ、業界全体のさまざまなアプリケーションにとってより魅力的なものにしています。

市場の主要プレーヤー

エピタキシャルウエハー市場の主要企業には、Infineon Technologies AG, Samsung Electronics Co., Ltd., Northrop Grumman Corporation, Mitsubishi Chemical Corporation, STMicroelectronics N.V., Texas Instruments Incorporated, Broadcom Inc., Veeco Instruments Inc., II-VI Incorporated, Micron Technology, Inc. and Semco Corporation.などがあります。

主な動向：

2024年8月、テキサス・インスツルメンツとアメリカ商務省は、テキサス州とユタ州ですでに建設中の300mmウェハ・ファブ3カ所を支援するため、CHIPSおよび科学法の下で提案された最大16億ドルの直接資金に関する拘束力のない予備的条件覚書に署名。

2024年4月、インフィニオン・テクノロジーズは世界的な半導体メーカーであるSKシルトロンCSSと最終合意。この契約は、SKシルトロンがインフィニオンのために150mm炭化ケイ素ウエハーを生産することを定めたものです。

対象となる成膜タイプ
– ヘテロエピタキシー
– ホメオエピタキシー

対象材料
– シリコン (Si)
– 窒化ガリウム（GaN）
– 炭化ケイ素（SiC）
– ガリウムヒ素（GaAs）
– その他の材料タイプ

対象サイズ
– 2インチウエハ
– 4インチウエハ
– 6インチウエハー
– 8インチウエハ
– 12インチウエハ

対象アプリケーション
– 集積回路（IC）
– パワーデバイス
– 太陽電池
– 発光ダイオード（LED）
– レーザーダイオード
– その他のアプリケーション

対象エンドユーザー
– コンシューマー・エレクトロニクス
– 電気通信
– 自動車
– 航空宇宙・防衛
– ヘルスケア
– 産業用アプリケーション
– エネルギー
– その他のエンドユーザー

対象地域
– 北米
アメリカ
カナダ
メキシコ
– ヨーロッパ
ドイツ
イギリス
イタリア
フランス
スペイン
その他のヨーロッパ
– アジア太平洋
日本
中国
インド
オーストラリア
ニュージーランド
韓国
その他のアジア太平洋地域
– 南米
アルゼンチン
ブラジル
チリ
その他の南米諸国
– 中東・アフリカ
サウジアラビア
アラブ首長国連邦
カタール
南アフリカ
その他の中東・アフリカ

レポート内容
– 地域および国レベルセグメントの市場シェア評価
– 新規参入企業への戦略的提言
– 2022年、2023年、2024年、2026年、2030年の市場データをカバー
– 市場動向（促進要因、制約要因、機会、脅威、課題、投資機会、推奨事項）
– 市場予測に基づく主要ビジネスセグメントにおける戦略的提言
– 主要な共通トレンドをマッピングした競合のランドスケープ
– 詳細な戦略、財務、最近の動向を含む企業プロファイリング
– 最新の技術進歩をマッピングしたサプライチェーン動向